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  • 2025

    5-9

    層流壓差式防爆型的質(zhì)量流量控制器的工藝結構及特點耐腐蝕材料與密封優(yōu)化材料選擇:采用316L不銹鋼流道,其低碳含量與鉬元素增強了抗點蝕和晶間腐蝕能力,適用于Cl?、H?S等腐蝕性介質(zhì)環(huán)境。密封技術:關鍵密封點使用FFKM全氟醚橡膠或PTFE材質(zhì),耐受強酸、強堿及有機溶劑,漏率控制在1×10?10Pa·m3/s以下,避免介質(zhì)泄漏導致的部件失效。層流元件與傳感技術層流元件:強制流體進入雷諾數(shù)Re雙通道壓差傳感:結合溫度補償模塊修正粘度變化誤差,典型精度可達±0.5%讀...

  • 2025

    5-7

    質(zhì)量流量控制器(MassFlowController,MFC)在原子層沉積(AtomicLayerDeposition,ALD)設備中扮演著關鍵角色,其高精度、快速響應和穩(wěn)定性對實現(xiàn)ALD工藝的高質(zhì)量薄膜沉積至關重要。前驅體氣體的精確控制脈沖式氣體注入:ALD工藝基于交替的前驅體氣體脈沖注入(如金屬有機化合物、反應氣體等)。MFC需在極短時間內(nèi)(毫秒級)精確控制氣體流量,確保每個脈沖的氣體量一致,從而實現(xiàn)單原子層的逐層沉積。流量穩(wěn)定性:MFC通過閉環(huán)反饋系統(tǒng)實時調(diào)節(jié)流量,避免...

  • 2025

    5-6

    在工業(yè)自動化與精密流體控制領域,耐腐蝕型質(zhì)量流量控制器(MFC)是保障生產(chǎn)安全與效率的關鍵設備。針對腐蝕性介質(zhì)的嚴苛工況,基于層流壓差原理設計的耐腐蝕型MFC通過材料優(yōu)化與結構創(chuàng)新,在半導體、化工、環(huán)保等領域展現(xiàn)價值。產(chǎn)品概述:層流壓差式MFC的耐腐蝕設計層流壓差式MFC基于流體層流狀態(tài)下的壓差-流量線性關系,通過高精度傳感器與算法實現(xiàn)流量精準控制。在耐腐蝕性能方面,其核心技術體現(xiàn)在三方面:材料選擇:核心流道與接觸部件采用316L不銹鋼,其低碳含量與鉬元素顯著提升抗點蝕、晶間...

  • 2025

    4-28

    泄漏率測試是工業(yè)制造與科研領域中確保系統(tǒng)密封性的關鍵環(huán)節(jié),廣泛應用于半導體設備、真空系統(tǒng)、醫(yī)療儀器、航空航天等高精度領域。測試的核心目標是量化氣體或液體在密閉系統(tǒng)中的微小泄漏量,通常以標準立方厘米每分鐘(sccm)或類似單位衡量。由于現(xiàn)代工業(yè)對密封性的要求日益嚴苛(如半導體工藝中允許的泄漏率可能低至1×10??sccm級別),傳統(tǒng)檢測手段難以滿足需求,而基于層流壓差式質(zhì)量流量控制器(MFC)的技術因其高精度、快速響應和環(huán)境適應性,逐漸成為泄漏率測試的核心設備。層流壓差式MFC...

  • 2025

    4-27

    揮發(fā)性有機物(VOCs)的在線監(jiān)測是環(huán)保治理的關鍵環(huán)節(jié),尤其在工業(yè)廢氣處理、大氣污染防控等領域。而層流壓差式質(zhì)量流量控制器(MassFlowController,簡稱MFC)憑借其高精度、抗吸附性及耐腐蝕等特點,成為VOCs在線監(jiān)測系統(tǒng)中的核心組件。層流壓差式MFC的技術原理與VOCs監(jiān)測的適配性層流壓差式MFC基于哈根-泊肅葉定律,通過層流元件強制氣體進入層流狀態(tài)(雷諾數(shù)Re技術特性與VOCs監(jiān)測的適配性:高精度與穩(wěn)定性:精度可達±0.5%讀數(shù),重復性&plu...

  • 2025

    4-25

    質(zhì)量流量控制器在諸多領域中發(fā)揮著關鍵作用,其性能的優(yōu)劣直接關系到系統(tǒng)的精確控制和穩(wěn)定運行。以下是一些影響質(zhì)量流量控制器性能的重要因素。流體特性是影響質(zhì)量流量控制器性能的關鍵因素之一。不同的流體具有不同的物理性質(zhì),如密度、粘度、溫度和壓力等。密度較大的流體在相同的流速下會產(chǎn)生更大的質(zhì)量流量,而粘度較高的流體則可能導致流量測量和控制的誤差增大。此外,流體的溫度和壓力變化也會對控制器的性能產(chǎn)生影響,因為這些變化會導致流體密度和體積的改變,進而影響質(zhì)量流量的測量精度。精度和分辨率也是...

  • 2025

    4-25

    化學機械拋光(ChemicalMechanicalPolishing,CMP)是半導體制造中實現(xiàn)晶圓表面納米級平坦化的關鍵工藝,其核心設備CMP機臺通過化學腐蝕與機械研磨的協(xié)同作用,確保芯片多層結構的精確加工。質(zhì)量流量控制器(MassFlowController,MFC)作為高精度氣體流量控制的核心部件,在CMP設備中扮演了重要角色。CMP工藝對氣體控制的嚴苛需求CMP工藝的核心是通過拋光液與晶圓表面的化學反應及機械摩擦實現(xiàn)材料去除。在此過程中,多種工藝氣體(如氧氣、氮氣、氬...

  • 2025

    4-24

    氣體壓力控制器的定義與工作原理氣體壓力控制器是一種用于監(jiān)測和調(diào)節(jié)氣體壓力的自動化裝置,其核心功能是維持系統(tǒng)壓力在設定范圍內(nèi),確保設備安全運行并優(yōu)化工藝效率。它通過傳感器、閥門等組件實現(xiàn)動態(tài)調(diào)節(jié),廣泛應用于工業(yè)、能源、醫(yī)療、交通等領域。氣體流量與壓力的關系氣體流量(單位時間內(nèi)通過的氣體體積)與壓力(單位面積上的作用力)之間存在復雜的動態(tài)關聯(lián),主要受流量-壓力曲線與阻力系數(shù)、流動狀態(tài)與雷諾數(shù)、溫度與介質(zhì)特性的影響壓力控制器如何影響氣體流量氣體壓力控制器通過調(diào)節(jié)系統(tǒng)壓力,間接或直接...

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